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正極材料包覆

簡(jiǎn)要描述：正極材料包覆（Atomic layer deposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。

  • 產(chǎn)品型號：GM10/100/1000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2024-05-08
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：1241

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詳細介紹

    一、正極材料包覆核心參數：

    價(jià)格區間：100萬(wàn)-200萬(wàn)

    產(chǎn)地類(lèi)別：國產(chǎn)原子層沉積系統（ALD）

    襯底尺寸：10g-1000g粉末

    工藝溫度：RT-300℃

    前驅體數：2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅體

    重量：300KG

    尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm

    均勻性：在粉末表面實(shí)現均勻原子層包覆,包覆均一性<3%

    二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。

    三、正極材料包覆產(chǎn)品描述：

    廈門(mén)韞茂科技公司的GM系列自動(dòng)粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實(shí)現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長(cháng)，GM1000的反應室可自動(dòng)運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統，保證工藝溫度均勻。該系統具有粉末樣品桶、動(dòng)態(tài)粉末流化機構、全自動(dòng)溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具。

    四、售后服務(wù)：

    保修期：1年

    是否可延長(cháng)保修期：否

    現場(chǎng)技術(shù)咨詢(xún)：有

    免費培訓：1.設備出廠(chǎng)前，提供至少2人一周的設備原廠(chǎng)培訓。2.設備在現場(chǎng)完成安裝調試

    免費儀器保養：有需要可安排

    保內維修承諾：保修期內（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔

    報修承諾：質(zhì)保期內出現故障時(shí)我司將及時(shí)響應，并在8小時(shí)內派技術(shù)人員到現場(chǎng)解決故障

    五、技術(shù)參數：


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